（12）发明专利申请
（21）申请号 CN01121142.3 （22）申请日 2001.05.31 （71）申请人 日本电解株式会社
地址 日本东京
（10）申请公布号 CN1328176A （43）申请公布日 2001.12.26
（72）发明人 本桥成公;天方正志 （74）专利代理机构 上海专利商标事务所
代理人 徐迅
（51）Int.CI
C25D1/04;
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
生产电解铜箔的方法和设备
（57）摘要
通过将电解液加到相互面对的阴极转鼓和
阳极之间,在它们之间施加直流电,将电解铜箔电解沉积到转动阴极转鼓的表面上。同时,使电解铜箔在开始时形成晶核,方法是在阳极上方提供辅助阳极、电解液容器和闸板,在阴极转鼓和辅助阳极之间施加电流,将电解液从辅助阳极附近的电解液加料器分开加到阴极转鼓表面上,使其通过阴极转鼓表面和电解液容器边缘之间的空隙排出,并靠电
解液容器和闸板使电解液滞留在阴极转鼓表面和辅助阳极之间。
法律状态
法律状态公告日
2001-11-14 2001-12-26 2004-09-01 2015-07-22
法律状态信息
实质审查请求的生效
公开 授权 专利权的终止
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实质审查请求的生效
公开 授权
专利权的终止
权利要求说明书
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说明书
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