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AlN陶瓷低温烧结制备与性能研究

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中国陶瓷工业 CHINA CERAMIC INDUSTRY Apr.2010 Vo1.17。No.2 2010年4月第17卷第2期 文章编号:1006—2874(2010)02—0001—04 AIN陶瓷低温烧结制备与性能研究 牛锛 王孙昊 李保平 王介强 (济南大学材料科学与工程学院,济南:250022) 摘要采用两组复合烧结助剂Y203-CaF2, o -CaF2-Li2CO,在1600 ̄(2烧结A1N陶瓷,对A1N陶瓷烧结密度,热性能和电性 能进行了测试,并分析了/kin陶瓷物相变化和微观结构。结果表明,复合烧结助剂在低温下能明显促进AIN陶瓷致密化 及晶粒生长发育,尤其是添加3wt ̄/oY203-2wt%CaF:作烧结助剂,1600 ̄C' ̄Lff,-烧结4h制备了结晶良好,相对密度为98.4%, 热导率为133.62W/m・K,同时具有较低相对介电常数的A1N陶瓷。在低温常压条件下制备出性能较高的A1N陶瓷。 关键词AlN陶瓷,热导率,烧结助剂,低温烧结 中图分类号:.rQ174.75 文献标识码:A 2实验过程 1前言 随着电子信息技术的飞速发展,散热问题严重制约了电 分别称取A1N粉体(质量分数>99.99%,平均粒径 500nm)和烧结助剂,使其总重为5.0g,得到三组试样,分别标 记为:AW(未添加烧结助剂),AYC(添加3wt%Y ̄O3-2wt% CaF ̄)和AYCL(添加3wt%Y2O3-2wt%CaF2-2wt%Li ̄COa)。 子元件向高密度、多功能、高速化和大功率的发展Ⅲ。A1N因具 有高热导率、低介电常数、与si相匹配的线胀系数、绝缘以及 机械性能良好、成本低、无毒等比点,作为一种综合性能优越的 新型电子陶瓷逐渐成为新一代集成电路封装材料的首选 。 AIN作为共价化合物,熔点高,自扩散系数小,常压下难 球磨机采用南京大学仪器厂QM-WX04型卧式行星磨,转速 以烧结成致密体,通常都是采用高温热压烧结lr,- ̄、放电等离子 烧结 得到高致密度的陶瓷,这不但增加了AJN制品的生 产成本,而且也难以制造一些形状较为复杂的产品,因而难以 批量生 和广泛直用。目前,获得致密A]N陶瓷的预想温度应低 于1600oC。因为,如果AIN试样致密化温度低于1600℃,就 可以使用MoSi 作为烧结炉的加热元件,如此,烧结炉的尺寸 会变小,且结构也会变简单,这对批量生产来说就可以实现连 续烧结。 已有研究表明n.-删,添加一定量的碱土或稀土氧化物如 为600rad/min,按球料质量分数比6:1,球磨4h进行混料。球 磨产物置于干燥箱中8O℃干燥10h,选用100目的标准筛筛 分干燥后的料浆,然后以200MPa钢模双向压制粉料,压制成 尺寸为13mm×2mm的圆片状坯体,坯体置于含有少量碳粉 的A1N埋粉和N2气氛下,分别于1500℃,1550℃及1600℃ 在箱式电阻炉中烧结,保温时间2h--6h。 采用德国布鲁克公司DS—advance型x射线衍射仪 (X-ray diffraction,XRD)进行烧结产物XRD分析;采用 Archimedes法测试烧结体相对密度;采用日本日立公司 S一2500型扫描电子显微镜(scanning electron microscope, Y2o。、CaO等,能有效的促进/kiN材料致密化。其作用机制目 前普遍认为是烧结助剂在较低烧结温度下和A1N颗粒表面 SEM)进行烧结体断面形貌分析;利用美国安捷伦HP4294A 型精密阻抗分析仪测陶瓷的介电性能;利用德国耐驰LFA427 型导热分析仪测陶瓷的热导率。 的 20 反应,生成液相,依靠液相表面张力的作用使固相 AIN颗粒重新排列,并通过液相加速传质过程,活化烧结,促 进致密化;同时它们通过在晶界以Y s0 和Ca ̄A1。4o 等 化合物的形式析出,降低AIN品格的氧含量,从而提高热传 导系数。 鉴于以上分析,本文主要研究AIN陶瓷的低温常压烧 结,通过不同烧结助剂的选择,以期在较低温度(低于1600oC) 3结果分析 3.1烧结体XRD分析 图l为AW、AYC和AYCL在1600oC烧结4h的XRD 图谱。由图可以看出,将坯体置于含有少量碳粉的/kiN埋粉 下制备出高热导率的A1N陶瓷,为A1N封装基板的大规模工 业化批量生产奠定基础。 收稿日期:2010-01—03 基金项目:山东省自然学科基金项目资助(编号:Y2006F57) 通讯联系人:王介强,男,教授,E—mail:niuben5755@163.tom 中于N2气氛下烧结,可有效避免A1N在烧结过程中的氧化, 未添加烧结助剂的试样AW,其烧结产物为纯的A1N相,没有 氧化相AI [)3产生,但衍射峰强度低,结品性不好。 2 中国陶瓷工业 2010年第2期 (-rr0 !S【 日口_ 2 0/(o) 图1 AW、AYC和AYCL在1600oC烧结 4h的XRD图谱 Fig.1 XRD patterns of AW,AYC and AYCL sintered at 1600 ̄Cfor 4h 添加Y 和ca 作烧结助剂的试样,AYC除了主晶相 A1N以外,还产生晶界相Y 和ca_Al一0化合物,加入 的烧结助剂Y2()3和ca 在1300oc左右形成液相化合物并逐 渐挥发,最后剩下Y 和c『d_Al一0化合物,降低了晶格 的氧含量,净化了晶格。Y20。参与反应的生成物Y—Al—O化 合物沉积于晶界处,限制了热导率的提高,而CaFz与Al20 反 应生成了具有挥发性或可升华的物质,促使生成的第二相流 动到三叉晶界处,因此在Y O。的基础上添加适量的CaF.,有 利于形成液相促进烧结,提高热导率。 加入Y 、Ca1%和Li2C0 作烧结助剂的试样AYCL,从 图1可以看出烧结体的主晶相仍为AlN相,晶界相为Y AJ 0。 和ca一 —0化合物,主晶相衍射峰强度较高,但比AYC衍射 峰强度低,说明AYC晶粒发育程度比AYCL好。Y2() 和caF2 与Al20。反应的Y 5() 相、ca—Al一0相将AIN品格表面的 氧固结在晶界上,Li20与Al2O 的反应物的衍射峰在图中没 有显示,说明已经挥发。加入的Li。O能在1000℃左右的低温 下与 20。反应生成^y—LiA10。液相,升高温度到1100oc左 右全部挥发。适量 O的加入降低了Y 和Ca1%与A1。0 反应的最低共熔点,液相形成温度降低,促进烧结体的致密 化,但过量LifO的加入所生成的化合物在高温下挥发而残留 的气孔又在一定程度上降低AIN陶瓷的烧结密度。 3.2不同烧结条件对烧结体致密度的影响 图2为AW、AYC和AYCL在不同烧结温度下保温4h 的相对密度与烧结温度的关系图。从图中可以看到AW的相 对密度较低,且随温度升高变化较小,AYC和AYCL的相对 密度随温度升高变化较大,且AYC在1600℃保温4h相对密 度最高,达到了98.4%。AYCL在1500℃和1550oC时相对密 度较高,表明Li20能在较低温度形成液相并降低A1 O。和金 属氧化物混合体的共晶点,但当温度升高到1600oC时,由于 液相的挥发所产生的孔隙使得在该温度下所得烧结体的相对 密度低于AYC。 摹 警 勺 》 ’ 1500 1550 1600 Sintering temperature/ ̄C 图2 AW、AYC和AYCL在不同烧结温度下保温4h 的相对密度与烧结温度的关系 Fig.2 The relationship between relative densities and sintering tempemtums of AW,AYC and AYCL sintered at diferent temperature for 4h 摹 ’高 _。 》 ‘d Holding time/h 图3 AYC在不同烧结温度下的相对密度与 保温时间的关系 Fig.3 The relationship between relative densities and holding times of AYC sintered at different temperature 图3为在不同烧结温度下AYC的相对密度与保温时间 的关系图。在1500oC烧结时,陶瓷的相对密度较低,在此温度 下,液相烧结不明显,主要是固相传质驱动,由于传质速度较 慢,适当延长保温时间可以促进致密度的提高。当烧结温度在 1550℃和1600oC时,坯体的致密化导致其内部空间的压缩, 从而将孔隙排挤到坯体的表面,烧结体的相对密度明显提高, 当保温时间为4h,烧结致密化基本完成,保温超过4h,试样的 相对密度反而有所下降,这是因为过分延长保温时间可能会 导致烧结体晶粒异常长大。 3.3烧结体SEM分析 图4为添加不同的烧结助剂1600oC不同保温时间下制 备A1N陶瓷断面的SEM照片。由图4(a)看出,1600oC保温4h 后,没有添加烧结助剂的AW试样晶粒发育不完善,颗粒之间 气孔较多。 由图4(b)看出,在1600℃烧结4h后,AYC试样晶粒发育 2010年第2期 中国陶瓷工业 3 (a)保温4小时AW断面SEM图片;(b)保温4小时AYC断面SEM图片;(c)保温4小时AYCL断面SEM图片 (d)保温2小时AYC断面SEM图片;(e)保温6小时AYC断面SEM图片 图4 1 600oC不同保温时间下制备AIN陶瓷断面的SEM照片 Fig.4 SEM micrographs of AIN ceramics sintered at 1 600 ̄(3 for diferent holding time 表1 AYC和AYCL在1600℃保温 不同时间的热导率 Frequency/MHz Tab.1 Thermal conductivity of AYCL 图5 AIN、AYC和AYCL在1600℃下保温4h的相对 介电常数与频率的关系 Fig.5 The relationship of relative dielectric constant and AYC sintered at 1 600℃for different holding time with frequency of AIN,AYC and AYCL sintered at 1600oCfor 4h 完善,呈清晰的多边形状,晶粒之问呈面接触,晶粒均匀性良 好,品界相和气孔极少,添加3wt%Y Oa-2%CaF2作烧结助剂, 在1600℃的低温情况下制备出致密的AlN陶瓷。 由图4(c)与图4(b)对比可看出,在1600℃烧结4h后, 璃相、微晶相、大小和形状不同的气相构成。由于两主晶相间 及各主晶相与晶界间的电导率不同,当有电场作用时,造成材 料中电荷的不均匀分布,形成品界上的空间电荷极化。AYC的 致密度高,晶界相、气孔等少,极化率低,其相对介电常数最低。 AYCL相比AYC试样晶粒发育不规则,有少量的气孔。Li2O 的存在降低了液相形成温度,同时有挥发性物质产生,并从晶 格问溢出造成AYCL试样气孔增多,影响了晶粒的发育长 大,降低了AIN陶瓷的相对密度。 图4(d)、4(e)为AYC在1600℃烧结时,不同保温时间下 而AW致密 芝差,晶粒苎清不完善,其相对介电常数较高。 表l为AYC和AYCL在1600 ̄(2保温不同时间的热导率 测试结果。致密度是影响AIN陶瓷热导率的主要指标之一, 在1600℃下AYC烧结4h比AYCL烧结4h具有更高的热导 率。致密度较低时,气孔等第二相较多,造成强烈的声子散射, 严重降低/kin陶瓷的热导率。 制备AIN陶瓷断面的SEM照片。将图4(d),4(e)与图4(b)比较 发现,延长保温时间给予晶粒合适的长大时间,促进了晶粒的 发育,但会造成个别晶粒异常长大,晶粒发育不均匀。 3.4烧结体性能分析 延长保温时问可以一定程度的提高热导率,这是由于在 致密度相差不大的情况下,晶粒尺寸增大,降低声子散射界面 的各种缺陷,如晶界等棺 寸减少。所以在保证致密度的前提下, 适当延长保温时间,使晶粒尺寸增大,对提高热导率是有利的。 图5为AW、AYC和AYCL在1600℃下保温4h的相对 介电常数与频率的关系图。从图5中可以看出AW、AYC和 AYCL随着频率变化相对介电常数的变化趋势。在低频时相 对介电常数急剧下降,随着频率增大逐渐变小,不添加烧结助 4结论 (1)通过将A1N坯体置于含有少量碳粉的AIN埋粉中于 N 气氛下烧结,解决了AIN在烧结过程中的氧化问题。 (2)添加3wt%Y2()厂2wt%ca 作烧结助剂,采用纳米 剂的AW试样相对介电常数变化幅度较大,AYC和AYCL 相对介电常数变化幅度较小。在1MHz下测得的相对介电常 数分别为17.9、7.71、9.09。 AIN陶瓷是由AIN晶相和晶界相构成,而晶界相是由玻 AIN粉在1600 ̄C常压烧结4h制备了较致密的A1N陶瓷,其相 4 中国陶瓷工业 2010年第2期 对密度达到98.4%;烧结体I 堑 完善,呈清晰的多边形状,晶 9刘军芳,付正义,张金咏.陶瓷学报,2001,22(3):157—160 10 Khor K A,Yu L G Murakoshi Y.工Ettrop.Ceram.See.,2005,25: 1057-1065 粒之问呈面接触,晶粒均匀性良好,晶界相和气孔极少;该试 样具有较低的介电常数,所测热导率为133.62 W/m・K;适当 延长保温时间,可以使晶粒继续长大,提高烧结体的热导率。 参考文献 l1郑锐,席生岐,周敬恩.稀有金属材料与工程,2001,30(5):396-398 l2秦明礼,曲选辉,罗铁钢.稀有金属材料与工程;2005,34(5):713 ̄716 l3金海云'王雯.高积强等.稀有金属材料与工程,2006,35(10):1616  ̄1619 l李清涛,吴清仁’孙创奇等.陶瓷学报.2007,38(1):57~64 14黄,J、iji 帙智李发等无柳材料学报(Journal ofInorganic MateaJals). 2002。17f2):277-282 15 Watari K,Hwang H J,Tofiyama M,et a1.J.Am.Ceram.So ̄.,1996, 2王华彬。郑永挺,韩杰才等.功能材料,2oo0(31):16—19 3盂献丰,陆春华,倪亚茹等.材料导报,2003,17(3):35—37 4 Sheppard L.M.Am.Ccram.Soc.Bul1.,1990。69(11):1801-1812 79(7):1979 ̄1981 5李友芬.刘伟伟,张麟宁.现代技术陶瓷,2006(1):28 ̄31 6李小雷,马红安,郑友进等.材料研究学报,2008,22(4):394—398 7李晓云。丘泰,沈春英.硅酸盐学报,2004,32(11):1422—1424 8熊焰,傅正义,王玉成.材料研究学报,2005,19(5):555—560 l6熊焰,傅正义,王皓.中国有色金属学报.2006,15(11):1705-1709 17 Koji Watari,Maria Cecilia Valeeillos,Manuel E.Brito,et a1.J.Am. Ceram.Soc.,1996.79(12):3103-3108 18 Koji Watari,Hae J.Hwang,Motohiro Tofiyam ̄et a1.J.Mater.Re,., 1999,14(4):1409 ̄141 PREPARATIoN AND PROPERTIES STUDY OF AlN CERAMICS SINTERED AT LOW TEMPERATURE Niu Ben Wang Sunhao Li Baopin Wang Jieqiang (Materials Science and Engineering School。University of Jinan,Jinan 250022) ABSTRACT AIN ceramics doped with Y203一CaF2 and Y203-CaF2一L-2cO3 were sintered at 1 600℃.The densiy,tthermal and electricaI properties.and AIN phase change and microstructure of sintered AIN ceramics were tested and analyzed.The results show that composite sintering additives promote AlN ceramic densification and grain development significantly.Especially dense AIN ceramics doped with 3wt%Y203-2wt%CaF2 and sin- tered at 1 60o℃f0r 4h have gO0cI crystalline grains.The relative density of AIN ceramics Is 98.4%,the the卜 maI conductiviyt of AIN ceramics is 133.62W/m・K.and AIN ceramics have a IOW reltiare dielectirc constant. The higher performance AIN ceramics are prepared by pressureless sintering at a Iower temperature. KEyWORDS AIN ceramics,thermaJ conductiviy,sitntering aids,IOW—temperature sintering Received on Jan.3,201 0 Wang Jieqiang.male,Professor。E—mail:niuben5755@163.com 

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