一种地下室底板后浇带构造[实用新型专利]

*CN203049628U*

(10)授权公告号(10)授权公告号 CN 203049628 U(45)授权公告日 2013.07.10

(12)实用新型专利

(21)申请号 201220731041.4(22)申请日 2012.12.27

(73)专利权人深圳奥意建筑工程设计有限公司

地址518000 广东省深圳市福田区华发北路

30号(72)发明人毛仁兴

(74)专利代理机构深圳市康弘知识产权代理有

限公司 44247

代理人胡朝阳 孙洁敏(51)Int.Cl.

E02D 29/16(2006.01)

权利要求书1页 说明书1页 附图1页权利要求书1页 说明书1页 附图1页

(54)实用新型名称

一种地下室底板后浇带构造(57)摘要

一种地下室底板后浇带构造，其包括设于地面的垫层（1）、设于该垫层上的底板主体（2）、底板主体之间的后浇带（3）。所述后浇带的底部设有一储备空间（4）。本实用新型在地下室底板后浇带的底部增加了200mm厚的储备空间，即使水、泥、垃圾无法清理干净，残留部分可以置于储备空间里，而不影响施工质量。

CN 203049628 UCN 203049628 U

权 利 要 求 书

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1.一种地下室底板后浇带构造，包括设于地面的垫层（1）、设于该垫层上的底板主体（2）、底板主体之间的后浇带（3），其特征在于，所述后浇带的底部设有一储备空间（4）。

2.如权利要求1所述的地下室底板后浇带构造，其特征在于，所述的储备空间（4）深度为200mm。

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CN 203049628 U

说 明 书

一种地下室底板后浇带构造

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技术领域

[0001]

本实用新型涉及建筑结构，具体涉及一种施工质量可靠的地下室底板后浇带构

造。

背景技术

[0002] 当钢筋砼构件达到一定长度时，为避免由于砼水化热的影响，砼收缩应力引起砼构件开裂，需要隔一段距离留设后浇带。如图1所示，地下室底板结构为：设于地面的垫层1、设于该垫层上的底板主体2、底板主体之间的后浇带3。对于较深的地下室底板而言，后浇带浇筑时，其空间内的水、泥、垃圾等较难清理干净，浇筑后影响工程质量，部分还会引起裂缝而漏水。

[0003] 如何防止遗留在地下室底板的后浇带空间内的水、泥、垃圾等杂物影响工程质量是业界亟待解决的技术问题。发明内容

本实用新型为解决上述后浇带浇筑时存在的技术问题，提出一种施工质量可靠的

地下室底板后浇带构造。

[0005] 本实用新型提出的一种地下室底板后浇带构造，其包括设于地面的垫层、设于该垫层上的底板主体、底板主体之间的后浇带。所述后浇带的底部设有一储备空间。[0006] 较优的，所述的储备空间深度可以为200mm。

[0007] 本实用新型在地下室底板后浇带的底部增加了200mm厚的储备空间，即使水、泥、垃圾无法清理干净，残留部分可以置于储备空间里，而不影响施工质量。

[0004]

附图说明

图1是现有地下室底板后浇带构造的剖视图；[0009] 图2是本实用新型较佳实施例的剖视图。

[0008]

具体实施方式

[0010] 如图2所示，本实用新型较佳实施例提供的一种地下室底板后浇带构造，包括设于地面的垫层1、设于该垫层上的底板主体2、底板主体之间的后浇带3。该后浇带的底部设有一储备空间4。本实施例中所述的储备空间4深度可以为200mm。

[0011] 本实用新型在地下室底板后浇带的底部增加了200mm厚的储备空间，即使水、泥、垃圾无法清理干净，残留部分可以置于储备空间里，而不影响施工质量。[0012] 以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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说 明 书 附 图

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图1

图2

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