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一种高温退火硅片的制备方法

来源:爱站旅游
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(21)申请号 CN201210465601.0 (22)申请日 2012.11.16

(71)申请人 有研半导体材料股份有限公司

地址 100088 北京市西城区新街口外大街2号

(10)申请公布号 CN103820862A

(43)申请公布日 2014.05.28

(72)发明人 李宗峰;冯泉林;赵而敬;盛方毓;闫志瑞;李青保;王磊 (74)专利代理机构 北京北新智诚知识产权代理有限公司

代理人 郭佩兰

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

一种高温退火硅片的制备方法

(57)摘要

本发明提供一种高温退火硅片的制备方

法,包括以下步骤:(1)将硅片装载好后,以150mm/min的速度升入温度为650℃,保护气氛为纯Ar的石英炉管内,保温30min;(2)向石英炉管内通入H

法律状态

法律状态公告日

2014-05-28

公开

法律状态信息

公开

法律状态

法律状态公告日

2014-05-28 2014-06-25 2014-06-25 2014-06-25 2014-06-25 2015-07-01 2015-07-01 2017-10-10

法律状态信息

公开

实质审查的生效 著录事项变更 实质审查的生效 著录事项变更

专利申请权、专利权的转移 专利申请权、专利权的转移 发明专利申请公布后的驳回

法律状态

公开

实质审查的生效 著录事项变更 实质审查的生效 著录事项变更

专利申请权、专利权的转移 专利申请权、专利权的转移 发明专利申请公布后的驳回

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说明书

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