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光刻胶和光学应用用的低光密度聚合物和共聚物的制备方法[发明专利]

来源:爱站旅游
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:光刻胶和光学应用用的低光密度聚合物和共聚物的

制备方法

专利类型:发明专利

发明人:米歇尔·时汉,詹姆斯·里申请号:CN91104298.9申请日:19910629公开号:CN1057847A公开日:19920115

摘要:公开了一种制备含聚(4-羟基苯乙烯)或取代的 聚(4-羟基苯乙烯)的聚合物的方法。该聚合物在 240~260nm波长具有低光密度,在310~800nm也 具有低光密度。

申请人:赫希斯特人造丝公司

地址:美国新泽西

国籍:US

代理机构:中国国际贸易促进委员会专利代理部

代理人:陈季壮

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