专利名称:一种抗蚀图形改进材料以及使用该材料制备抗蚀图
形的方法
专利类型:发明专利发明人:野崎耕司,小澤美和申请号:CN03101768.1申请日:20030122公开号:CN1442752A公开日:20030917
摘要:本发明提出在形成精小图形时减小边缘粗糙度的改进。该目的的取得在构图刻蚀膜之后,在刻蚀膜上形成涂覆膜,以便将刻蚀膜材料和涂覆膜材料在交界面上混合来减小边缘粗糙度。提供一种抗蚀图形改进材料,包括:(a)一种水溶性或者碱溶性的成分,包含:(i)一种树脂,和(ii)一种交联剂。根据本发明,提供一种制备图形的方法,包括:形成抗蚀图形;和在抗蚀图的表面上涂覆根据本发明的抗蚀图形改进材料,其中,抗蚀图形改进材料与抗蚀图形在它们之间的界面上混合。
申请人:富士通株式会社
地址:日本神奈川
国籍:JP
代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人:王永刚
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