专利名称:一种MOS栅控晶闸管专利类型:发明专利
发明人:胡飞,宋李梅,韩郑生,杜寰申请号:CN2018115222.5申请日:20181213公开号:CN109616518A公开日:20190412
摘要:本发明提供一种MOS栅控晶闸管。所述MOS栅控晶闸管包括阴极、栅极和阳极三个电极,其中,所述栅极包括NMOS和PMOS,所述MOS栅控晶闸管还包括N‑P‑N‑P四层结构区和P扩散区,其中,所述N‑P‑N‑P四层结构区包括N+阴极区、P基区、N型漂移区、N+缓冲层和P+阳极区,所述N型漂移区中靠近所述P扩散区的区域内设置N型埋层。本发明能够抑制基极电阻控制晶闸管BRT和发射极开关晶闸管EST开启过程中的snapback现象,从而能够解决多元胞开启不一致问题,提高器件工作可靠性。
申请人:中国科学院微电子研究所
地址:100029 北京市朝阳区北土城西路3号
国籍:CN
代理机构:北京汇泽知识产权代理有限公司
代理人:张瑾
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