专利名称：一种对显示屏模组连续磁控溅射镀膜的真空系统专利类型：实用新型专利发明人：朱选敏,郭爱云,李烁申请号：CN201720763445.4申请日：20170628公开号：CN206970710U公开日：20180206
摘要：本实用新型公开了一种对显示屏模组连续磁控溅射镀膜的真空系统，包括进片移动架、上片架、回片架、下片架、出片移动架及管道，还包括由安装在底架上的进片真空腔、进片粗真空缓冲腔、进片高真空缓冲腔、进片过渡真空腔、镀膜工艺真空腔、出片过渡真空腔、出片高真空缓冲腔、出片粗真空缓冲腔、出片真空腔依次胶圈密封连接组成，所述每个腔体正面安装有通过胶圈密封的维修门，所述进片真空腔和进片粗真空缓冲腔右侧分别安装有一个进片抽气系统和一个进片粗真空抽气系统；本专利连续镀膜生产线为九段真空结构，可以实现有快速的从大气状态下抽气到真空镀膜真空状态；并实现连续批量生产，生产效率高，故障率小。
申请人：武汉科瑞达真空科技有限公司
地址：430075 湖北省武汉市东湖高新技术开发区高新大道666号武汉国家生物产业基地项目B、C、D区研发楼B1栋
国籍：CN
代理机构：北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙)
代理人：郭官厚
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